搪玻璃反应釜在设备的制造过程中，会因为卷筒、冲压、焊接等工艺产生大量的内应力，这些应力在搪烧底釉前就应采用热处理进行消除，这样才能够减少搪烧次数，确保搪玻璃设备的生产效率。给反应釜设备搪烧二氧化硅玻璃需要按照工艺规范进行。

　　1、搪玻璃反应釜瓷层厚度规定是0.8-2mm，搪烧的次数应该在5-7次。瓷层的厚度，一般要求1mm左右。具体根据使用要求而定，如考虑传热，应使瓷釉层薄些，不需传热而使用的介质腐蚀牲严重时，瓷釉层厚些。要达到规定瓷厚，产品上的面釉要喷搪多遍。每遍厚度以薄一些为好。但考虑生产效率，也不能太薄，一般以控制每遍厚度增加0.2mm为佳。

　　2、为保证搪烧质量，每喷搪一遍，都要经过检查，检查瓷面上是否有暗泡、针孔等，一经查到就应打磨开进行修补。对于直通金属表面的针孔和暗泡要磨挖，甚至补焊。凡见底金属的修补处，需要补喷底釉。上述修补程序是每个喷搪操作者需要掌握的。

　　3、设备在制造过程中产生的应力除用退火的方式释放外，还要在设备搪烧好后至少静置15天，成品设备在静置期没有爆瓷方可出厂。

　　需要补充一点的是，减少搪烧次数是在满足技术要求的前提下完成的，有许多的企业在生产时为了减少搪烧次数而增大每次喷釉的厚度。这样在搪烧时玻璃层容易出现烧不透、夹生等问题，搪玻璃层的耐腐蚀性能得不到保障，且层与层之间结合不好，容易爆瓷，所以一定要按照搪瓷工艺规程进行操作。